DH2008 系列微波 CVD 薄膜制備裝置
本裝置由公司和武漢工程大學(xué)聯(lián)合研制，由微波源、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、微波傳輸及微波諧振腔等部分組成。適合大學(xué)近現(xiàn)代物理、材料、化學(xué)等領(lǐng)域進(jìn)行微波 CVD 原理與方法的教學(xué)、研究，金剛石與類(lèi)金剛石薄膜制備實(shí)驗(yàn)及科學(xué)研究，以及用于生長(zhǎng)碳納米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜，具有生長(zhǎng)速度快、操作簡(jiǎn)便、性?xún)r(jià)比高等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)可完成等離子體刻蝕加工實(shí)驗(yàn)、微波等離子體表面改性等實(shí)驗(yàn)。
技術(shù)參數(shù)
上一個(gè)：沒(méi)有了！
下一個(gè)：直流輝光等離子體實(shí)驗(yàn)裝置
